
がんばり
室蘭工大の庭山教授が米化学会フェローに
庭山教授がアメリカ化学会のフェローに選出されました
室蘭工業大学の庭山聡美教授が、アメリカ化学会のフェローに選出され、シカゴで行われた授賞式に出席しました。
令和8年8月24日(月)、しくみ解明系の庭山聡美教授が、アメリカ化学会(American Chemical Society:ACS)のフェローに選出され、シカゴで行われた授賞式に出席しました。 ACSは1876年に設立さ […]
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